東京工業大学大学院工学院電気電子系 博士後期課程に在学中の水谷一翔様の学術研究論文が、
国際学会「2021 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices - Science and Technology -」(IWDTF2021)にて学術論文名 「Recovery of ferroelectric property after endurance test by positive reset voltage application for CeO_x-capped ferroelectric HfO₂ films」が、
また、Advanced Metallization Conference 2021（ADMETA Plus 2021）にて学術論文名「Leakage current suppression by layered insertion of Y₂O₃ for ferroelectric HfO₂」が採択され、学会誌に掲載されましたので、ご連絡致します。